Equipos industriales de agua ultrapura EDI

Electrodesionización continua: 

Utiliza membranas de intercambio iónico y lechos de resina para eliminar iones del agua de forma continua, eliminando la necesidad de regeneración química y reduciendo los costes operativos.

Salida de alta pureza:

Proporciona agua ultrapura con una resistividad de hasta 18,2 MΩ·cm (a 25 °C) y niveles extremadamente bajos de carbono orgánico total (COT), sílice y contaminantes microbianos.

Pretratamiento integrado de ósmosis inversa (OI):

Incluye tecnología RO para eliminar sólidos disueltos, coloides y materia orgánica, lo que prolonga la vida útil del módulo EDI y garantiza un rendimiento constante.

Monitoreo y control avanzados: 

Equipada con automatización PLC y sensores en tiempo real para la monitorización continua de parámetros de calidad del agua, caudales, presión y estado del sistema.

Diseño compacto y modular:

Su configuración compacta permite una fácil integración en sistemas de tratamiento de agua existentes o en nuevas instalaciones.

Funcionamiento energéticamente eficiente: 

Consumo de energía optimizado y menor desperdicio de agua en comparación con los sistemas tradicionales de intercambio iónico.

Requisitos de mantenimiento mínimos: 

Tiempo de inactividad minimizado gracias a las funciones de autolimpieza y a los componentes de larga duración.

1. Etapa previa al tratamiento

Filtración por ósmosis inversa (OI): El agua de alimentación pasa primero por un sistema de OI para eliminar entre el 95 % y el 99 % de los sólidos disueltos, la materia orgánica y los coloides. Esto protege el módulo EDI de la obstrucción y prolonga su vida útil.

Filtración con carbón: Paso opcional para eliminar el cloro, las cloraminas y los residuos orgánicos que podrían dañar los componentes EDI.

2. Funcionamiento del módulo EDI

Intercambio iónico en lecho de resina: El agua pretratada entra en el módulo EDI, que contiene compartimentos alternos llenos de resinas de intercambio catiónico y aniónico. Estas resinas atraen y capturan iones (por ejemplo, sodio, cloruro, sílice) del agua.

Regeneración eléctrica: Se aplica una tensión continua al módulo, lo que crea un campo eléctrico. Este campo impulsa los iones capturados a través de membranas selectivas de iones (catiónicas o aniónicas) hacia compartimentos adyacentes concentrados, donde se eliminan mediante un flujo separado.

Eliminación del agua: A altos potenciales eléctricos, las moléculas de agua en los lechos de resina se disocian en iones de hidrógeno (H⁺) e hidróxido (OH⁻). Estos iones regeneran continuamente los lechos de resina in situ, eliminando la necesidad de regenerantes químicos externos (por ejemplo, ácidos o sosa cáustica).

3. Producción de agua ultrapura

Eliminación de iones: A medida que el agua fluye a través de los compartimentos llenos de resina, los iones se eliminan progresivamente, alcanzando niveles de resistividad de hasta 18,2 MΩ·cm (el límite teórico para el agua ultrapura).

Etapa de pulido: El pulido final elimina los contaminantes residuales, garantizando el cumplimiento de las estrictas normas de la industria (por ejemplo, SEMI F74 para agua de grado semiconductor).

4. Ventajas clave del EDI

Funcionamiento continuo: A diferencia de los sistemas de intercambio iónico por lotes, el EDI funciona las 24 horas del día, los 7 días de la semana, sin tiempo de inactividad para la regeneración.

Libre de productos químicos: Reduce el impacto ambiental al eliminar los residuos peligrosos ácidos/cáusticos.

Eficiente energéticamente: Menor consumo de energía en comparación con la destilación o la electrodesionización por separado.

Calidad constante: Mantiene una resistividad estable y bajos niveles de COT/partículas.

Diseño compacto: Su configuración modular ahorra espacio en entornos industriales.

5. Aplicaciones típicas

Fabricación de semiconductores: Enjuague de microchips para prevenir la contaminación iónica.

Productos farmacéuticos: Preparación de agua para inyección (WFI) y formulaciones farmacéuticas estériles.

Generación de energía: Agua de alimentación de la caldera para prevenir la formación de incrustaciones y la corrosión.

Electrónica: Limpieza de componentes de precisión como paneles LCD.

Parámetros técnicos

Rango de caudal: 0~48.000 m³/h

Altura del cilindro: 1~24 m

Alcance de la cabeza: ≤100 m

Potencia de control: Bomba única ≤315 kW/380 V; ≤1000 kW/10 kV

Diámetro del cilindro: ≤10 m

Material del cilindro: PRFV (plástico reforzado con fibra de vidrio); acero inoxidable